光刻機 : 光刻機是製造晶片的核心裝備，而光刻機市場幾乎被荷蘭的 asml 、日本的 nikon 和 canon 這3家廠所瓜分，其中身為後起之秀的 asml 的光刻機技術最為.. 比如現在處於尖端地位的euv（extreme ultra violet）光刻機，這類光刻機使用了極紫外光作為光源。目前業界的euv光刻機大多使用的是波長為13.5nm左右的極紫外光。 另一種業界比較主流的光刻機就是duv（deep ultra violet）光刻機了，這類光刻機使用的是深紫外光作為光源。 當今世界光刻機三大製造商是：日本 nikon、canon 和荷蘭 asml，日本 nikon 和 canon 都是知名百年老牌照相機製造商，asml 則是 1984 才成立的合資公司，但如今 asml 光刻機（曝光機）享譽全球，聲勢更超越 nikon。 光刻機（英語： mask aligner ）是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵裝置。 可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長 激光 和類似投影機原理的 步進式光刻機 （英語： stepper ）或 掃描式光刻機 （英語： scanner ），獲得比模板更小的曝光圖樣。 當今世界光刻機三大製造商是：日本 nikon、canon 和荷蘭 asml，日本 nikon 和 canon 都是知名百年老牌照相機製造商，asml 則是 1984 才成立的合資公司，但如今 asml 光刻機（曝光機）享譽全球，聲勢更超越 nikon。 光刻機是製造晶片的核心裝備，而光刻機市場幾乎被荷蘭的 asml 、日本的 nikon 和 canon 這3家廠所瓜分，其中身為後起之秀的 asml 的光刻機技術最為.
比如現在處於尖端地位的euv（extreme ultra violet）光刻機，這類光刻機使用了極紫外光作為光源。目前業界的euv光刻機大多使用的是波長為13.5nm左右的極紫外光。 另一種業界比較主流的光刻機就是duv（deep ultra violet）光刻機了，這類光刻機使用的是深紫外光作為光源。 當今世界光刻機三大製造商是：日本 nikon、canon 和荷蘭 asml，日本 nikon 和 canon 都是知名百年老牌照相機製造商，asml 則是 1984 才成立的合資公司，但如今 asml 光刻機（曝光機）享譽全球，聲勢更超越 nikon。 光刻機（英語： mask aligner ）是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵裝置。 可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長 激光 和類似投影機原理的 步進式光刻機 （英語： stepper ）或 掃描式光刻機 （英語： scanner ），獲得比模板更小的曝光圖樣。 當今世界光刻機三大製造商是：日本 nikon、canon 和荷蘭 asml，日本 nikon 和 canon 都是知名百年老牌照相機製造商，asml 則是 1984 才成立的合資公司，但如今 asml 光刻機（曝光機）享譽全球，聲勢更超越 nikon。 光刻機是製造晶片的核心裝備，而光刻機市場幾乎被荷蘭的 asml 、日本的 nikon 和 canon 這3家廠所瓜分，其中身為後起之秀的 asml 的光刻機技術最為.
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光刻機（英語： mask aligner ）是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵裝置。 可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長 激光 和類似投影機原理的 步進式光刻機 （英語： stepper ）或 掃描式光刻機 （英語： scanner ），獲得比模板更小的曝光圖樣。
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